OPTM显微分光膜厚仪
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■测量范围:1nm~92μm(SiO2折射率换算)
■测量波长:~nm
(紫外~可视~近红外)
■测量光斑:最小Φ3μm
■光学常数:n,k解析
■多层解析:最多50层
■相机:测试区域观测，Pattern等微小区域测量
■应用:半导体、复合半导体、
太阳能电池、FPD、薄膜、
数据存储、镜头、光学材料、
DLC等
SF-3超高速分光干涉式厚度仪
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■测量范围:6~μm
(Si折射率换算)
■测量光斑:约Φ20μm以上
■测量速度:最快60,点/分
■多层解析:最多5层
■应用工序:在CMP、BG和
最终抛光（TTV、GBIR）
工序测量晶圆和树脂的厚
SF-3晶圆厚度仪(mm规格)
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■mm晶圆厚度自动Mapping系统
■搭载自动对准功能、观测测量位置功能
■测量范围:6~μm
(Si折射率换算)
■测量光斑:约Φ20μm以上
■多层解析:最多5层
■应用:MEMS和传感器用途晶圆
FE-膜厚仪
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■紧凑、高性价比薄膜厚度仪
■测量范围:3nm~35μm
(SiO2折射率换算)
■测量光斑:Φ3mm/Φ1.2mm
■多层解析:最多10层
■光学常数解析:支持
■应用:功能性薄膜、塑料
半导体、表面处理、
光学材料、平面显示器等
FE-5series椭偏仪
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■可见和紫外范围（~nm）的椭偏测量
■使用多通道光谱仪进行快速测量（超过通道）
■测量范围:0.1nm~1μm
■测量光斑:约Φ1.2/约Φ2.0
■多层解析:支持
■应用:半导体、化合物半导体、FPD、
各种新材料、光学薄膜、光刻等
MCPDseriesー膜厚测量用途
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■光纤构建的测量系统，适合各种尺寸及形状样品
■测量范围:65nm~92μm
(SiO2折射率换算)
■多层解析:支持
■应用:功能性薄膜(在线,离线)、
半导体、表面处理、光学材料、
平面显示器等
ELSZneo纳米粒度及Zeta电位仪
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■抛光液的纳米粒径和Zeta电位测量
■晶圆表面的Zeta电位测量
■粒径测量范围:0.3nm~10μm
■Zeta电位测量范围:-mV~+mV
■多角度动态光散射技术
大塚电子（苏州）有限公司
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